Beschrijving
Model: 600 SemiAuto
- Halfautomatisch RF-plasmasysteem
- Kan tot 200 mm wafers verwerken
- Gebruikt voor strippen van fotoresist en oppervlaktereiniging, en voor het etsen van silicium en siliciumverbindingen
- Kamerafmetingen: 245 mm diameter, 380 mm diepte
- Materiaal kamer: keramisch
- ENI RF-generator: 0-600 Watt, 13,56 MHz
- Gassen: 4 kanalen geregeld door 4 MFC's
- Leybold D65B vacuümpomp
- Afmetingen: 740mm x 624mm x 701mm + aansluitingen
- Elektrisch: 230V, 50/60Hz, 15A, 2kW
- 1731 uur
Houd er rekening mee dat deze beschrijving mogelijk automatisch is vertaald. Neem contact met ons op voor meer informatie. De gegevens van deze rubrieksadvertentie zijn slechts indicatief. Exapro raadt aan om vóór een aankoop de gegevens bij de verkoper te controleren