Toont 21 - 40 van 49
Jaar:
FSI Dolfijn MEGASONISCHE TANK MET 6″ WAFELCASSETTE TRANFER NAAR TWEEDE BADJaar:
KARL SUSS MASKER ALIGNER MA56 Omschrijving: De Karl Suss MA 56 is een maskeruitlijnings- en belichtingssysteem dat zeer ecnomonische productiemogelijkheden heeft voor wafers tot 125 mm. Het is gemakkelijk te onderhouden en kan eenvoudig worden aangepast aan uw specifieke procesvereisten.Jaar:
SSEC SCHOON 3300 MODEL: M3302 208 VAC, 3PH, 60Hz, 30 AMP Fabricagedatum 8/30/05 AC Dwg-nr. 330i1712 1) de wafer wordt ondergedompeld in een mengsel van oplosmiddelen (zogenaamde reiniging door onderdompeling) 2) er vindt een verwerking plaats door middel van verstuiving van oplosmiddelen (de zogenaamde Fan Spray Processing) en stikstofdroging. De eenheid heeft een zogenaamd dry-in/dry-out systeem (droge wafers in/droge wafers …Jaar:
Despatch Wafer-uithardingsoven type D40B Staat: Gebruikt Merk: Despatch Model: Type D40B Omvat: (1) Gebruikte Despatch Wafer-uithardingsoven Type D40B Despatch Wafer-uithardingsoven te koop (Gebruikt) MAX. BEDRIJFSTEMP. 280 ͦ C Type verwarming: Elektrisch LEYBOLD TRIVAC Vacuüm Type D40B FABR. Te koop aangeboden: Despatch Wafer Curing Oven Type D40B (Gebruikt). Verkoop "zoals het is, waar het is". We hebben niet de mogelijkheid om …Jaar:
SSEC Evergreen serie II fotoresist Wafer-eter Staat: Gebruikt Merk: SSEC Model: Evergreen serie II Bevat: (1) Gebruikte SSEC Evergreen Series II Photoresist Wafer Etcher Chemische opslag Wafer overdrachtskabinet Overdrachtskast Roestvrij staal Recirculatiekoelers X 2 Pomp/Koeler Model # LG.HPC Solid State Equipment (SSEC) Evergreen Series II Model 203 Photoresist Wafer Etcher gegarandeerd geheel en compleet systeem. Ingesteld voor 6" wafers. Te …Jaar:
ECI-technologie Quali-Dose systeem voor chemische dosering Staat: Gebruikt Omvat: ECI Technology Quali-Dose QD-300 Chemisch doseersysteem Nooit gebruikt, chemisch doseersysteem zorgt voor een consistente omgeving voor wafers. VERMOGEN 100-127 AC, 50/60 Hz 20 A Grootste belastingen 5 A Handig stopcontact 5,8 A Computer 3,5 A (24 VDC voeding) Kortsluitvermogen 10k AIC Elektrisch Nauwkeurige concentraties van chemicaliën in het platingbad worden gehandhaafd …Jaar:
SVG dubbel spoor ontwikkelsysteem Staat: Gebruikt - Ingesteld voor maximaal 6" wafers - Bedieningsmodel #8132 CTD/ 8136 HPO Verkocht "zoals het is, waar het is". We hebben niet de mogelijkheid om alle apparatuur te testen. Dit systeem is gedeïnstalleerd in werkende, operationele staat.Jaar: 2008
Icos T120-4 CCD: IS1 2D: IVC-2000 IS1 3D:IVC-2000 IS2: IVC-1000 IS5: IVC-1000 MMI: 7.7a Lens: QLMJaar:
laatste preventieve onderhoud uitgevoerd 17 dec-2020 Precisie-dicingzaag voor siliciumwafers en dunne substraten tot 200 mm diameter accepteert 2"/3" naaf- of ringvormige bladen DC borstelloze 60.000 tpm luchtgelagerde 1,2 kW motor 0,2u resolutie aanvoersnelheid tot 350 mm/s touch-down bladhoogtesensor Matrox vision-systeem met automatische scherpstelling en automatische verlichting 2x-8x zoom 2 boogseconden herhaalbaarheid rotatieas 200-240v, 50/60hz software ver. 4.3.2 bedieningshandleidingen 200 mm …Jaar:
Rudolph Technologies NSX® waferinspectiesystemen bieden een hoge doorvoercapaciteit samen met herhaalbare macro-waferdefectinspectie voor defecten van 0,5 micron en groter. Macrowafeldefecten kunnen optreden in verschillende fasen van de halfgeleiderproductie en kunnen een grote impact hebben op de kwaliteit van uw micro-elektronische apparaten. Dit kosteneffectieve gebruikte Rudolph Technologies NSX 105 waferinspectiesysteem detecteert snel en nauwkeurig kritische defecten en biedt kwaliteitsborging naast waardevolle …Jaar: 2017
Gemeten spectraalbereik < 12,5 tot > 14,5 nm Spectrale resolutie ≈ 1,7 uur Gemeten spotgrootte Typ. 250x100 μm2 -- Gemeten signaaldynamiek > 12 bit ➔ Van < 0,01 % tot > 60 % CWL_50 gem. Nauwkeurigheid: ≤ 15.00 uur CWL_50 Precisie, 3σ ≤ 1 uur Piekreflectie Av. Nauwkeurigheid Rpeak ~ 65% ≤ 0,5 % absoluut Piekreflectie Precisie Rpeak ~ 65%, …Jaar: 2016
2 eenheden beschikbaar PAx is beschikbaar in flexibele RF-configuraties voor testen op één of meerdere locaties. PAx is de enige kostengeoptimaliseerde ATE-oplossing die alle 8,5 GHz-standaarden dekt met instrumentuitbreiding tot 18 GHz met hoog vermogen.Jaar:
EBARA UFP 200 / 300M Photoresist Equipment is een geavanceerd lithografiesysteem dat wordt gebruikt om ingewikkelde patronen en kenmerken op substraten te creëren. Deze eenheid is ideaal voor gebruik bij de productie van hightech geïntegreerde schakelingen, halfgeleiderapparaten en andere componenten die worden gebruikt bij de fabricage van micro-elektronische schakelingen. Het beschikt over een modulair ontwerp om aan verschillende productievereisten te …Jaar: 2012
Advanced Energy AE RFG3001 RF-generator, 3000W 13,56MHz. Staat: Gereviseerd, werkend Aantal: 4 eenheden Garantie: 3 maanden Levertijd: 4 wekenJaar: 2014
Advanced Energy AE HFV-8000 radiofrequentiegenerator 1,765-2,165 MHz, 3000 W. Staat: gerenoveerd, werkend. Aantal: 2 eenheden Garantie: 3 maanden Doorlooptijd: 4 wekenJaar: 2014
MKS Astron HFS 15L AX7645RH-01 redundante stroomkeuzeschakelaar Onderdeelnummer: R27-282770-00 Staat: Gerenoveerd, werkend Aantal: 2 eenheden Garantie: 3 maanden Levertijd: 2-4 weken