SPTS STS Multiplex ICP HRM

Jaar: 2005

Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: SPTS STS Multiplex ICP HRM Categorie: Plasma-etser, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen Originele Apparatuur Fabrikant: SPTS, STS, Surface Tech Sys Voorwaarde: Volledig gerenoveerd en …

OXFORD Plasmalab 100 RIE Plasma Etcher halfgeleiderprocesapparatuur, front-end.

Jaar: 2004

Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: Oxford 100 RIE Categorie: Plasma-etser, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen, RIE Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: Oxford,OXFORD Plasmalab Staat: Volledig gerenoveerd en getest door verkoper Geldige …

SPTS STS Multiplex ICP MACS Bosch Proces

Jaar: 2005

Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: SPTS STS Multiplex ICP MACS Bosch Proces Categorie: Plasma-etser, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen Originele Apparatuur Fabrikant: SPTS, STS, Surface Tech Sys Voorwaarde: Volledig …



Brouwerij Wetenschap CEE 100CB Hotplate/Spinner

Jaar:

Brouwerij Wetenschap CEE 100CB Hotplate/Spinner Staat:Gebruikt Fabrikant: Brouwer Wetenschap Model: CEE 100CB (Hotplate/Spinner) Ondersteunt drie bakmethodes: nabijheid, zacht contact en hard contact voor maximale controle over de opwarming van het substraat, het drogen van het oplosmiddel en het uitharden van de hars. Het systeem werkt tot een maximale baktemperatuur van 300 °C. Een batterijgeheugen slaat tot tien gebruikersprogramma's op met …

TAZMO SOG COATER CSX2132N

Jaar:

TAZMO SOG GEREEDSCHAP MODEL: CSX2132N Dit apparaat is een verwerkingsmachine voor het bakken van SOG-coating, waarmee volautomatisch films van 150 mm substraten van cassette naar cassette kunnen worden gevormd. Dit systeem, waarbij het substraat wordt overgebracht door een robot met twee handen, wordt geleverd met een standaard beker, een koelplaat, drie bakplaten, een uitlijner, een koelruimte, een vacuümdroogruimte en een …

Waters HPLC-watermonsternamesysteem

Jaar:

Waters HPLC-watermonstersysteem Staat: Gebruikt Merk: Waters Model: HPLC Omvat: WATERS HPLC WATERMONSTERNAMESYSTEEM MET WATERS 600 CONTROLLER; WATERS 717 PLUS AUTOMATISCHE MONSTERNEMER; WATERS 2475 MULTI-FLOURESCENT DETECTOR; WATERS 410 REFRACTOMETER DIFFERENTIËLE REGELAAR; WATERS 486 AFSTEMBARE ABSORPTIE DETECTOR; WATERS TEMPERATUURREGELAAR MET KOLOMVERWARMINGSMODULE Verkoop "zoals het is, waar het is". We hebben niet de mogelijkheid om alle apparatuur te testen. Dit systeem is gedeïnstalleerd …




SVG Coat Ontwikkel Spoor Model 8836 HPO, 8838 VP, 8826PC, CTD MD DD 8836

Jaar:

SVG Vacht Ontwikkel Spoor Model #8836 HPO, 8838 VP, 8826PC, CTD MD DD 8836 Neem contact op voor prijzen en inspectie. Apparatuur is momenteel geïnstalleerd in FAB en kan op verzoek worden bekeken. TYPE APPARATUUR: Vacht Ontwikkel Baan FABRIKANT: SVG Model: #8836 HPO, 8838 VP, 8826PC, CTD MD DD 8836 Omschrijving: SVG 8826/8836 Serie Photoresist Coater en Ontwikkelaar (8800 Serie …

FISHER SCIENTIFIC ISOTEMP 13-986-145G

Jaar:

Inhoud: 45 cu. ft./ 1274L Afmetingen buitenkant: 53,5"B x 32"D x 78"H Afmetingen interieur: 48,75"B x 27"D x 61,75"H Temperatuurbereik: 1C tot 12C Gewicht: 560 lbs. Planken: 7 volle en 2 halve Deuren: Dubbele schuifdeuren Koelmiddel: R134A

4JET THORLABS

Jaar: 2016

R&D lasergraveerplatform Brand 4 Jet, jaar 2016 Perfecte staat. Machine uitgerust met xy-marmer en besturingscomputer. Let op: zonder laser (was uitgerust met laser ROFIN powerline L 100 SHG) Het setje is als volgt: Afmetingen industriële cleanroombehuizing 390x235x235 Numeriek besturingssysteem met knikker voor het verplaatsen van de x- en y-assen THORLABS broodplank voor optische padindeling Beckhoff PLC Max. substraatgrootte voor belasting …

Nordson Asymteck SL-940E Coatingsysteem

Jaar: 2015

Benodigde stroom 220 kW
Functionaliteit overige

Esco 32L

Jaar:

Isotherm oven met geforceerde convectie ESCO Isotherm 32L Force-convectieoven Isotherm® laboratoriumoven met geforceerde convectie biedt maximale thermische prestaties. Deze laboratoriumapparatuur wordt gebruikt voor het nauwkeurig drogen, verwarmen, uitgloeien en steriliseren van monsters/agentia van 7,5 °C boven omgevingstemperatuur tot 300 °C. De Esco-laboratoriumoven heeft ergonomische en intuïtieve interfaces, microprocessor-PID-regelaars met programmeeropties, verwarmde luchtmantel met 4 zones, nauwkeurig afgestemde en geteste ventilatie …

Advanced Energy Mercury3013

Jaar: 2017

RF-automaat Fabrikant: Advanced Energy AE Model: Mercury 3013, 13,56 MHz. Gerenoveerd, in goede werkende staat. 90 dagen garantie.

PEARL KOGYO RP-3000/1000-2/13MF2

Jaar: 2011

RF-generator PEARL KOGYO RP-3000/1000-2/13MF2 RF-generator, gereviseerd. Dubbele uitgang: 3000 W, 2 MHz/1000 W, 13,56 MHz 90 dagen garantie. Hoge betrouwbaarheid, duurzaamheid en kwaliteit vormen de kern van onze generatoren. Deze generator is met succes gebruikt voor de productie van halfgeleiderapparatuur en bij processen zoals droogetsen, sputteren voor supergeleiding en ionenimplantatie.

PEARL KOGYO RP3000-2M-F0

Jaar: 2010

RF-generator PEARL KOGYO RP-3000-2M-F0 RF-generator, 3000 W, 1,8-2,2 MHz. Handvat en behuizing kunnen gerepareerd worden. 90 dagen garantie. Hoge betrouwbaarheid, duurzaamheid en kwaliteit vormen de kern van onze generatoren. Deze generator is met succes gebruikt voor de productie van halfgeleiderapparatuur en bij processen zoals droogetsen, sputteren voor supergeleiding en ionenimplantatie.

UVOCS T10X10/OES UV-ozon reinigingssysteem

Jaar:

UV-ozon reinigingssysteem Het hart van UVOCS-reinigingsapparatuur is een kwartskwikdamplamp onder lage druk die UV-emissies genereert in het 254 en 185 nanometergebied. Er wordt ozon en atomaire zuurstof gegenereerd. Organische verontreinigingsmoleculen worden geëxciteerd of gedissocieerd door de absorptie van de 254nm golflengte UV. De aangeslagen organische verontreinigingen reageren met de atomaire zuurstof om vluchtige producten te vormen, zoals CO2 en H20. …