Gebruikte halfgeleidermachines

Glen Technologies R3A Snijmachine - Plasma/gas

Jaar:

PLC-gestuurd en biedt realtime duidelijke Engelse uitlezing van de bedrijfsparameters van het systeem, samen met corrigerende maatregelen in het geval van een abortus. Actief plasma voor routinematige reiniging van monsteroppervlakken RIE-Plasma voor agressieve reiniging van niet ESD-gevoelige monsters Downstream, elektronenvrij plasma voor het reinigen van gevoelige elektronische componenten De Glen R3A plasmagener kan worden gebruikt in een enkele of dubbele …

Prijs op aanvraag

hert

Digital Instruments D3100AFM hydraulische schaar

Jaar:

Afmeting 3100 AFM X-Y beeldvormingsgebied ongeveer 90um vierkant Z-bereik ca. 6um tot 150 mm monstergrootte nanoscoop IIIa besturing Geïntegreerde akoestische trillingsisolatietafel

Prijs op aanvraag

hert

March PX1000 Snijmachine - Plasma/gas

Jaar:

ENI ACG10B 1200W Rf 13,56mhz generator 2 elektrische schappen Porter Masss stroomregelaars: 1000 SCCM N2 500 SCCM N2

Prijs op aanvraag

hert

Suss RC8-MS3 Tabletcoatingmachine

Jaar:

spin coater met GYRSET systeem voor betere uniformiteit en lager harsverbruik Snel verwisselbare Gyrset gemotoriseerde en programmeerbare doseerarm max 200mm wafer of 6"x6" vierkant substraat roestvrije basiskast Maximale versnelling 5000 rpm/sec gemotoriseerde doseerarm mogelijkheid tot meervoudige afgifte voor maximaal 2 fotolakken Cybor 512 voeding met 505 regelaar (bestuurt 1-2 pompen) 1 Cybor 5126C pomp automatische sproeierreiniging patroonuitgifte Meerdere chucks en …

Prijs op aanvraag

hert

PVA Tepla 9204 Zinkende zinkvonkmachine

Jaar:

208v, 3 fase, 50/60hz, 20 ampère Uitzonderlijke staat: Kwartsvat vertoont geen sporen van etsing of gebruik Seren 600 watt Rf voeding 13.56mhz Externe wandgemonteerde stroomverdeler en contactdoos met EFO

Prijs op aanvraag

hert

Plasmafinish V55-G Tank

Jaar:

Vacuümkamer 340 x 400 x 450 mm Deur met automatische ontgrendeling na einde proces Microgolfopwinding 2,45 GHz magnetron, maximaal aangepast vermogen 1200W 3 gaskanalen met Brooks MFC: N2, Ar, O2 Benodigd vermogen 120/208v Pfeiffer DUO65C vacuümpomp met Fomblin-olie (PFPE) Manometer: Baratron absolute omvormer PLC procesbesturing met RS232

Prijs op aanvraag

hert

Tepla 600-AL Snijmachine - Plasma/gas

Jaar:

Model: 600 SemiAuto - Halfautomatisch RF-plasmasysteem - Kan tot 200 mm wafers verwerken - Gebruikt voor strippen van fotoresist en oppervlaktereiniging, en voor het etsen van silicium en siliciumverbindingen - Kamerafmetingen: 245 mm diameter, 380 mm diepte - Materiaal kamer: keramisch - ENI RF-generator: 0-600 Watt, 13,56 MHz - Gassen: 4 kanalen geregeld door 4 MFC's - Leybold D65B vacuümpomp …

Prijs op aanvraag

hert

Plasmafinish V55-G Tank

Jaar:

Vacuümkamer 340 x 400 x 450 mm Deur met automatische ontgrendeling na einde proces Microgolfopwinding 2,45 GHz magnetron, maximaal aangepast vermogen 1200W 3 gaskanalen met Brooks MFC: N2, Ar, O2 Pfeiffer DUO65C vacuümpomp met Fomblin-olie (PFPE) Manometer: Baratron absolute omvormer PLC procesbesturing met RS232 Benodigde stroom: 230/400VAC, 3 fase, geaard, 50/60hz

Prijs op aanvraag

hert

MRL Bandit 218 Oven

Jaar:

200mm LPCVD-oven buis 1: TEOS/gloeiend buis 2: Nitride/poly, gasaansluitingen: lucht laag N2, N2, FG1, Ar, O2, SiH2Cl2(DCS), SiH4, NH3 2 Kashiyama vacuümpompen met blowers Schumacher M-Dot doteringsbronregelaar Afmetingen oven 66x36x78 afm. gasmodule 18x36x78 benodigd vermogen: 480v, 250 ampère max.

Prijs op aanvraag

hert

Yield Engineering 3TA HMDS Damp Oven

Jaar:

Binnenkamer: 12"b x 13,25"d x 12"h (2) PID temperatuurregelaars 25-200ºC PLD logische regelaar met touchscreen display Granville-Phillips digitale vacuümmeter Zijdelings gemonteerd, HMDS-vat met hoge capaciteit voor syphonvulling met vacuümmeter gemonteerd op vat Vacuüm- en drukvergrendelingen zorgen voor procesintegriteit en stikstofdrukregeling Bescherming tegen te hoge temperatuur Verwarmingsuitschakeling Voorverwarmde stikstof om wafers snel op bedrijfstemperatuur te brengen Mogelijkheid tot meerdere programma's Materiaal …

Prijs op aanvraag

hert

Esco 32L

Jaar:

Isotherm oven met geforceerde convectie ESCO Isotherm 32L Force-convectieoven Isotherm® laboratoriumoven met geforceerde convectie biedt maximale thermische prestaties. Deze laboratoriumapparatuur wordt gebruikt voor het nauwkeurig drogen, verwarmen, uitgloeien en steriliseren van monsters/agentia van 7,5 °C boven omgevingstemperatuur tot 300 °C. De Esco-laboratoriumoven heeft ergonomische en intuïtieve interfaces, microprocessor-PID-regelaars met programmeeropties, verwarmde luchtmantel met 4 zones, nauwkeurig afgestemde en geteste ventilatie …

1.630 €

Maleisië

USI Ultron UH114

Jaar:

Machine voor het monteren van tape Model: UH114 Volt: 115Vac/3Amp Fase 1 Frequentie: 50/60 Hz FUNCTIES: - Eenvoudig verstelbaar veerbelast rollensamenstel - Uniforme filmspanning: filmspanstangen (langs beide x/y-assen en voor/achter voor UH114; - Uniforme hechting zorgt voor belvrij lamineren - Cirkelsnijder (wielvormig) voor het snijden van film op filmframe - Instelbare snijdruk voor verschillende films (dikte/hardheid) - Digitale temperatuurgecontroleerde plaat …

2.500 €

Maleisië

Advanced Energy Cesar0230

Jaar:

RF-generator AE Cesar0230 RF-generator, 200V, 3000W, 2MHz. Gerenoveerd. Het robuuste en veelzijdige Cesar®-platform biedt uitzonderlijk consistente prestaties op het gebied van RF-vermogenslevering, evenals een gevarieerde selectie modellen, elk met een unieke reeks functies en mogelijkheden (2, 4, 13,56, 27,12 en 40,68 MHz; 0,3 tot 5 kW; met een verscheidenheid aan gebruikersinterfaces en invoeropties). Hierdoor kunt u een unit kiezen die …

12.000 €

China

MKS Astron HFS AX7645PS-02 Reactieve gasgenerator

Jaar:

Reactieve gasgenerator MKS Astron HFS AX7645PS-02 Voeding De ASTRON®hf-s reactieve gasgenerator is ontworpen voor meer flexibiliteit voor proces- en kostenoptimalisatie. Gebaseerd op de gepatenteerde Low-Field Toroidal plasmatechnologie, biedt de ASTRON®hf-s het breedste werkbereik met tot 15 slm NF3 samen met hoge stromen van andere gassen. Een aparte, op een deksel te monteren plasmasectie en een in een rek te monteren …

Prijs op aanvraag

China

MKS Astron HFS AX7645RH-02

Jaar:

Reactieve gasgenerator MKS Astron HFS AX7645RH-02 externe kop De reactieve gasgenerator van ASTRON®hf-s is ontworpen voor meer flexibiliteit bij proces- en kostenoptimalisatie. Gebaseerd op de gepatenteerde Low-Field Toroidal plasmatechnologie, biedt de ASTRON®hf-s het breedste bedrijfsbereik met maximaal 15 slm NF3 samen met hoge stromen van andere gassen. Een aparte, op het deksel te monteren plasmasectie en een in een rek …

Prijs op aanvraag

China