Tepla 600-AL Snijmachine - Plasma/gas

Jaar:

Model: 600 SemiAuto - Halfautomatisch RF-plasmasysteem - Kan tot 200 mm wafers verwerken - Gebruikt voor strippen van fotoresist en oppervlaktereiniging, en voor het etsen van silicium en siliciumverbindingen - Kamerafmetingen: 245 mm diameter, 380 mm diepte - Materiaal kamer: keramisch - ENI RF-generator: 0-600 Watt, 13,56 MHz - Gassen: 4 kanalen geregeld door 4 MFC's - Leybold D65B vacuümpomp …

SPTS STS Multiplex ICP HRM

Jaar: 2005

Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: SPTS STS Multiplex ICP HRM Categorie: Plasma-etser, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen Originele Apparatuur Fabrikant: SPTS, STS, Surface Tech Sys Voorwaarde: Volledig gerenoveerd en …

Technics 2000 plasmasysteem

Jaar: 1985

Model: Technics 2000, Technics PE-IIA Categorie: Plasma Asher, Halfgeleider Procesapparatuur Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: Technics Staat: Volledig gerenoveerd en getest door verkoper Locatie: VERENIGDE STATEN Installatie en training: Beschikbaar tegen extra kosten.


AG Associates Heatpulse 4100 snelle thermische processor

Jaar: 1995

Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: Heatpulse 4100 Categorie: RTP - Snelle thermische verwerking Oorspronkelijke fabrikant: AG Associates Staat: Volledig gereviseerd en getest door verkoper Geldige tijd: Dit …

Gasonics Aura 2000LL Plasma Asher Descum halfgeleiderprocesapparatuur, front-end.

Jaar: 1995

Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: Gasonics Aura 2000LL Categorie: Plasma Asher, Halfgeleider Procesapparatuur Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: Gasonics Staat: Volledig gerenoveerd en getest door verkoper Geldige tijd: Dit …

MRL Bandit 218 Oven

Jaar:

200mm LPCVD-oven buis 1: TEOS/gloeiend buis 2: Nitride/poly, gasaansluitingen: lucht laag N2, N2, FG1, Ar, O2, SiH2Cl2(DCS), SiH4, NH3 2 Kashiyama vacuümpompen met blowers Schumacher M-Dot doteringsbronregelaar Afmetingen oven 66x36x78 afm. gasmodule 18x36x78 benodigd vermogen: 480v, 250 ampère max.

SPTS STS Multiplex ICP MACS Bosch Proces

Jaar: 2005

Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: SPTS STS Multiplex ICP MACS Bosch Proces Categorie: Plasma-etser, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen Originele Apparatuur Fabrikant: SPTS, STS, Surface Tech Sys Voorwaarde: Volledig …

OXFORD Plasmalab 100 RIE Plasma Etcher halfgeleiderprocesapparatuur, front-end.

Jaar: 2004

Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: Oxford 100 RIE Categorie: Plasma-etser, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen, RIE Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: Oxford,OXFORD Plasmalab Staat: Volledig gerenoveerd en getest door verkoper Geldige …



Plasmafinish V55-G Tank

Jaar:

Vacuümkamer 340 x 400 x 450 mm Deur met automatische ontgrendeling na einde proces Microgolfopwinding 2,45 GHz magnetron, maximaal aangepast vermogen 1200W 3 gaskanalen met Brooks MFC: N2, Ar, O2 Benodigd vermogen 120/208v Pfeiffer DUO65C vacuümpomp met Fomblin-olie (PFPE) Manometer: Baratron absolute omvormer PLC procesbesturing met RS232

Suss RC8-MS3 Tabletcoatingmachine

Jaar:

spin coater met GYRSET systeem voor betere uniformiteit en lager harsverbruik Snel verwisselbare Gyrset gemotoriseerde en programmeerbare doseerarm max 200mm wafer of 6"x6" vierkant substraat roestvrije basiskast Maximale versnelling 5000 rpm/sec gemotoriseerde doseerarm mogelijkheid tot meervoudige afgifte voor maximaal 2 fotolakken Cybor 512 voeding met 505 regelaar (bestuurt 1-2 pompen) 1 Cybor 5126C pomp automatische sproeierreiniging patroonuitgifte Meerdere chucks en …

PVA Tepla 9204 Zinkende zinkvonkmachine

Jaar:

208v, 3 fase, 50/60hz, 20 ampère Uitzonderlijke staat: Kwartsvat vertoont geen sporen van etsing of gebruik Seren 600 watt Rf voeding 13.56mhz Externe wandgemonteerde stroomverdeler en contactdoos met EFO

March PX500 Smeedhamer

Jaar:

Advanced Energy RFX600 13,56mhz RF voeding 1 geaarde en 1 gevoede plank Leybold vacuümpomp

March PX1000 Snijmachine - Plasma/gas

Jaar:

ENI ACG10B 1200W Rf 13,56mhz generator 2 elektrische schappen Porter Masss stroomregelaars: 1000 SCCM N2 500 SCCM N2

Digital Instruments D3100AFM hydraulische schaar

Jaar:

Afmeting 3100 AFM X-Y beeldvormingsgebied ongeveer 90um vierkant Z-bereik ca. 6um tot 150 mm monstergrootte nanoscoop IIIa besturing Geïntegreerde akoestische trillingsisolatietafel

Plasmafinish V55-G Tank

Jaar:

Vacuümkamer 340 x 400 x 450 mm Deur met automatische ontgrendeling na einde proces Microgolfopwinding 2,45 GHz magnetron, maximaal aangepast vermogen 1200W 3 gaskanalen met Brooks MFC: N2, Ar, O2 Pfeiffer DUO65C vacuümpomp met Fomblin-olie (PFPE) Manometer: Baratron absolute omvormer PLC procesbesturing met RS232 Benodigde stroom: 230/400VAC, 3 fase, geaard, 50/60hz

PVA Tepla MetroLine M4L Plasma Asher

Jaar:

Recepten in meerdere stappen, realtime grafisch display, toegang met wachtwoord op meerdere niveaus, datalogging en realtime SPC-bewaking van alle plasmaparameters zijn aanwezig. Kamer: 9″ X 13″ X 20″ aluminium, met KF 40-poort met hoge geleiding, smoorklep en isolatieklep. Elektroden: 3-plank met gekooide elektroden. Seren RF-generator: 600 watt 13,56 MHz luchtgekoeld met automatisch impedantienetwerk. Beeldscherm: Kleuren 10,4 inch touchscreen voor regeling …

Yield Engineering 3TA HMDS Damp Oven

Jaar:

Binnenkamer: 12"b x 13,25"d x 12"h (2) PID temperatuurregelaars 25-200ºC PLD logische regelaar met touchscreen display Granville-Phillips digitale vacuümmeter Zijdelings gemonteerd, HMDS-vat met hoge capaciteit voor syphonvulling met vacuümmeter gemonteerd op vat Vacuüm- en drukvergrendelingen zorgen voor procesintegriteit en stikstofdrukregeling Bescherming tegen te hoge temperatuur Verwarmingsuitschakeling Voorverwarmde stikstof om wafers snel op bedrijfstemperatuur te brengen Mogelijkheid tot meerdere programma's Materiaal …