Toont 41 - 60 van 96
Jaar:
Brouwerij Wetenschap CEE 100CB Hotplate/Spinner Staat:Gebruikt Fabrikant: Brouwer Wetenschap Model: CEE 100CB (Hotplate/Spinner) Ondersteunt drie bakmethodes: nabijheid, zacht contact en hard contact voor maximale controle over de opwarming van het substraat, het drogen van het oplosmiddel en het uitharden van de hars. Het systeem werkt tot een maximale baktemperatuur van 300 °C. Een batterijgeheugen slaat tot tien gebruikersprogramma's op met …Jaar:
Inhoud: 45 cu. ft./ 1274L Afmetingen buitenkant: 53,5"B x 32"D x 78"H Afmetingen interieur: 48,75"B x 27"D x 61,75"H Temperatuurbereik: 1C tot 12C Gewicht: 560 lbs. Planken: 7 volle en 2 halve Deuren: Dubbele schuifdeuren Koelmiddel: R134AJaar:
TAZMO SOG GEREEDSCHAP MODEL: CSX2132N Dit apparaat is een verwerkingsmachine voor het bakken van SOG-coating, waarmee volautomatisch films van 150 mm substraten van cassette naar cassette kunnen worden gevormd. Dit systeem, waarbij het substraat wordt overgebracht door een robot met twee handen, wordt geleverd met een standaard beker, een koelplaat, drie bakplaten, een uitlijner, een koelruimte, een vacuümdroogruimte en een …Jaar:
Binnenkamer: 12"b x 13,25"d x 12"h (2) PID temperatuurregelaars 25-200ºC PLD logische regelaar met touchscreen display Granville-Phillips digitale vacuümmeter Zijdelings gemonteerd, HMDS-vat met hoge capaciteit voor syphonvulling met vacuümmeter gemonteerd op vat Vacuüm- en drukvergrendelingen zorgen voor procesintegriteit en stikstofdrukregeling Bescherming tegen te hoge temperatuur Verwarmingsuitschakeling Voorverwarmde stikstof om wafers snel op bedrijfstemperatuur te brengen Mogelijkheid tot meerdere programma's Materiaal …Jaar:
200mm LPCVD-oven buis 1: TEOS/gloeiend buis 2: Nitride/poly, gasaansluitingen: lucht laag N2, N2, FG1, Ar, O2, SiH2Cl2(DCS), SiH4, NH3 2 Kashiyama vacuümpompen met blowers Schumacher M-Dot doteringsbronregelaar Afmetingen oven 66x36x78 afm. gasmodule 18x36x78 benodigd vermogen: 480v, 250 ampère max.Jaar:
Vacuümkamer 340 x 400 x 450 mm Deur met automatische ontgrendeling na einde proces Microgolfopwinding 2,45 GHz magnetron, maximaal aangepast vermogen 1200W 3 gaskanalen met Brooks MFC: N2, Ar, O2 Pfeiffer DUO65C vacuümpomp met Fomblin-olie (PFPE) Manometer: Baratron absolute omvormer PLC procesbesturing met RS232 Benodigde stroom: 230/400VAC, 3 fase, geaard, 50/60hzJaar:
Model: 600 SemiAuto - Halfautomatisch RF-plasmasysteem - Kan tot 200 mm wafers verwerken - Gebruikt voor strippen van fotoresist en oppervlaktereiniging, en voor het etsen van silicium en siliciumverbindingen - Kamerafmetingen: 245 mm diameter, 380 mm diepte - Materiaal kamer: keramisch - ENI RF-generator: 0-600 Watt, 13,56 MHz - Gassen: 4 kanalen geregeld door 4 MFC's - Leybold D65B vacuümpomp …Jaar:
Vacuümkamer 340 x 400 x 450 mm Deur met automatische ontgrendeling na einde proces Microgolfopwinding 2,45 GHz magnetron, maximaal aangepast vermogen 1200W 3 gaskanalen met Brooks MFC: N2, Ar, O2 Benodigd vermogen 120/208v Pfeiffer DUO65C vacuümpomp met Fomblin-olie (PFPE) Manometer: Baratron absolute omvormer PLC procesbesturing met RS232Jaar:
208v, 3 fase, 50/60hz, 20 ampère Uitzonderlijke staat: Kwartsvat vertoont geen sporen van etsing of gebruik Seren 600 watt Rf voeding 13.56mhz Externe wandgemonteerde stroomverdeler en contactdoos met EFOJaar:
spin coater met GYRSET systeem voor betere uniformiteit en lager harsverbruik Snel verwisselbare Gyrset gemotoriseerde en programmeerbare doseerarm max 200mm wafer of 6"x6" vierkant substraat roestvrije basiskast Maximale versnelling 5000 rpm/sec gemotoriseerde doseerarm mogelijkheid tot meervoudige afgifte voor maximaal 2 fotolakken Cybor 512 voeding met 505 regelaar (bestuurt 1-2 pompen) 1 Cybor 5126C pomp automatische sproeierreiniging patroonuitgifte Meerdere chucks en …Jaar:
ENI ACG10B 1200W Rf 13,56mhz generator 2 elektrische schappen Porter Masss stroomregelaars: 1000 SCCM N2 500 SCCM N2Jaar:
Afmeting 3100 AFM X-Y beeldvormingsgebied ongeveer 90um vierkant Z-bereik ca. 6um tot 150 mm monstergrootte nanoscoop IIIa besturing Geïntegreerde akoestische trillingsisolatietafelJaar:
PLC-gestuurd en biedt realtime duidelijke Engelse uitlezing van de bedrijfsparameters van het systeem, samen met corrigerende maatregelen in het geval van een abortus. Actief plasma voor routinematige reiniging van monsteroppervlakken RIE-Plasma voor agressieve reiniging van niet ESD-gevoelige monsters Downstream, elektronenvrij plasma voor het reinigen van gevoelige elektronische componenten De Glen R3A plasmagener kan worden gebruikt in een enkele of dubbele …Jaar:
Advanced Energy RFX600 13,56mhz RF voeding 1 geaarde en 1 gevoede plank Leybold vacuümpompJaar: 2018
Complete doseersystemen voor de productie van elektronica en PCB-technologieën. Het systeem bestaat uit een preeFlow ECO-EC200-K dispenseraandrijfeenheid met een eco-PEN450 hand- of machinepistool voor een dispenser, een Vieweg-drukvat met een capaciteit van 4 liter, met een motoraangedreven tankmixer en een motoraandrijfeenheid als snelheidsregelaar. Compleet en volledig bruikbaar systeem voor het doseren van verschillende viskeuze materialen zoals siliconenverbindingen voor afdichtingsmiddelen, soldeerpasta's, …Jaar:
De EDB65 is een gebruiksvriendelijke, betrouwbare handmatige bonder die een hoge plaatsingsnauwkeurigheid garandeert voor alle laboratoriumtoepassingen, prototypes, preproductie en beperkt productiewerk. Het kan snel opnieuw worden geconfigureerd om alle gangbare halfgeleiderpakketten te accepteren en werkt in handmatige modus met maximaal 300 eenheden per uur. BEHANDELING EN PLAATSING VAN MATRIJZEN: De belasting van de oppakkop van de matrijs is instelbaar, wat …Jaar:
De EDB65 is een gebruiksvriendelijke, betrouwbare handmatige bonder die een hoge plaatsingsnauwkeurigheid garandeert voor alle laboratoriumtoepassingen, prototypes, preproductie en beperkt productiewerk. Het kan snel opnieuw worden geconfigureerd om alle gangbare halfgeleiderpakketten te accepteren en werkt in handmatige modus met maximaal 300 eenheden per uur. BEHANDELING EN PLAATSING VAN MATRIJZEN: De belasting van de oppakkop van de matrijs is instelbaar, wat …