Toont 61 - 80 van 95
Jaar: 2004
Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: Oxford 100 RIE Categorie: Plasma-etser, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen, RIE Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: Oxford,OXFORD Plasmalab Staat: Volledig gerenoveerd en getest door verkoper Geldige …Jaar: 2005
Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: SPTS STS Multiplex ICP MACS Bosch Proces Categorie: Plasma-etser, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen Originele Apparatuur Fabrikant: SPTS, STS, Surface Tech Sys Voorwaarde: Volledig …Jaar:
TAZMO SOG GEREEDSCHAP MODEL: CSX2132N Dit apparaat is een verwerkingsmachine voor het bakken van SOG-coating, waarmee volautomatisch films van 150 mm substraten van cassette naar cassette kunnen worden gevormd. Dit systeem, waarbij het substraat wordt overgebracht door een robot met twee handen, wordt geleverd met een standaard beker, een koelplaat, drie bakplaten, een uitlijner, een koelruimte, een vacuümdroogruimte en een …Jaar:
Waters HPLC-watermonstersysteem Staat: Gebruikt Merk: Waters Model: HPLC Omvat: WATERS HPLC WATERMONSTERNAMESYSTEEM MET WATERS 600 CONTROLLER; WATERS 717 PLUS AUTOMATISCHE MONSTERNEMER; WATERS 2475 MULTI-FLOURESCENT DETECTOR; WATERS 410 REFRACTOMETER DIFFERENTIËLE REGELAAR; WATERS 486 AFSTEMBARE ABSORPTIE DETECTOR; WATERS TEMPERATUURREGELAAR MET KOLOMVERWARMINGSMODULE Verkoop "zoals het is, waar het is". We hebben niet de mogelijkheid om alle apparatuur te testen. Dit systeem is gedeïnstalleerd …Jaar:
Brouwerij Wetenschap CEE 100CB Hotplate/Spinner Staat:Gebruikt Fabrikant: Brouwer Wetenschap Model: CEE 100CB (Hotplate/Spinner) Ondersteunt drie bakmethodes: nabijheid, zacht contact en hard contact voor maximale controle over de opwarming van het substraat, het drogen van het oplosmiddel en het uitharden van de hars. Het systeem werkt tot een maximale baktemperatuur van 300 °C. Een batterijgeheugen slaat tot tien gebruikersprogramma's op met …Jaar:
SVG Vacht Ontwikkel Spoor Model #8836 HPO, 8838 VP, 8826PC, CTD MD DD 8836 Neem contact op voor prijzen en inspectie. Apparatuur is momenteel geïnstalleerd in FAB en kan op verzoek worden bekeken. TYPE APPARATUUR: Vacht Ontwikkel Baan FABRIKANT: SVG Model: #8836 HPO, 8838 VP, 8826PC, CTD MD DD 8836 Omschrijving: SVG 8826/8836 Serie Photoresist Coater en Ontwikkelaar (8800 Serie …Jaar: 2016
R&D lasergraveerplatform Brand 4 Jet, jaar 2016 Perfecte staat. Machine uitgerust met xy-marmer en besturingscomputer. Let op: zonder laser (was uitgerust met laser ROFIN powerline L 100 SHG) Het setje is als volgt: Afmetingen industriële cleanroombehuizing 390x235x235 Numeriek besturingssysteem met knikker voor het verplaatsen van de x- en y-assen THORLABS broodplank voor optische padindeling Beckhoff PLC Max. substraatgrootte voor belasting …Jaar:
Inhoud: 45 cu. ft./ 1274L Afmetingen buitenkant: 53,5"B x 32"D x 78"H Afmetingen interieur: 48,75"B x 27"D x 61,75"H Temperatuurbereik: 1C tot 12C Gewicht: 560 lbs. Planken: 7 volle en 2 halve Deuren: Dubbele schuifdeuren Koelmiddel: R134AJaar:
Isotherm oven met geforceerde convectie ESCO Isotherm 32L Force-convectieoven Isotherm® laboratoriumoven met geforceerde convectie biedt maximale thermische prestaties. Deze laboratoriumapparatuur wordt gebruikt voor het nauwkeurig drogen, verwarmen, uitgloeien en steriliseren van monsters/agentia van 7,5 °C boven omgevingstemperatuur tot 300 °C. De Esco-laboratoriumoven heeft ergonomische en intuïtieve interfaces, microprocessor-PID-regelaars met programmeeropties, verwarmde luchtmantel met 4 zones, nauwkeurig afgestemde en geteste ventilatie …Jaar:
UV-ozon reinigingssysteem Het hart van UVOCS-reinigingsapparatuur is een kwartskwikdamplamp onder lage druk die UV-emissies genereert in het 254 en 185 nanometergebied. Er wordt ozon en atomaire zuurstof gegenereerd. Organische verontreinigingsmoleculen worden geëxciteerd of gedissocieerd door de absorptie van de 254nm golflengte UV. De aangeslagen organische verontreinigingen reageren met de atomaire zuurstof om vluchtige producten te vormen, zoals CO2 en H20. …Jaar:
Machine voor het monteren van tape Model: UH114 Volt: 115Vac/3Amp Fase 1 Frequentie: 50/60 Hz FUNCTIES: - Eenvoudig verstelbaar veerbelast rollensamenstel - Uniforme filmspanning: filmspanstangen (langs beide x/y-assen en voor/achter voor UH114; - Uniforme hechting zorgt voor belvrij lamineren - Cirkelsnijder (wielvormig) voor het snijden van film op filmframe - Instelbare snijdruk voor verschillende films (dikte/hardheid) - Digitale temperatuurgecontroleerde plaat …Jaar: 2013
RF generator Fabrikant: MKS Model: LVG3527A, 3500W 27MHz. Staat: Gereviseerd, in goed werkende staat. 90 dagen garantie.Jaar: 2017
RF-automaat Fabrikant: Advanced Energy AE Model: Mercury 3013, 13,56 MHz. Gerenoveerd, in goede werkende staat. 90 dagen garantie.Jaar: 2011
RF-generator PEARL KOGYO RP-3000/1000-2/13MF2 RF-generator, gereviseerd. Dubbele uitgang: 3000 W, 2 MHz/1000 W, 13,56 MHz 90 dagen garantie. Hoge betrouwbaarheid, duurzaamheid en kwaliteit vormen de kern van onze generatoren. Deze generator is met succes gebruikt voor de productie van halfgeleiderapparatuur en bij processen zoals droogetsen, sputteren voor supergeleiding en ionenimplantatie.