Toont 41 - 60 van 118
Jaar: 1995
Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: Matrix 303, Matrix 302 Categorie: Plasma-etstang, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: Matrix, Matrix Integrated Systems, Inc. Staat: Volledig gerenoveerd en getest …Jaar: 1995
Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: Gasonics L3510 Categorie: Plasma Asher, Halfgeleider Procesapparatuur Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: Gasonics Staat: Volledig gerenoveerd en getest door verkoper Geldige tijd: Dit item …Jaar: 2005
Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: SPTS STS Multiplex ICP MACS Bosch Proces Categorie: Plasma-etser, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen Originele Apparatuur Fabrikant: SPTS, STS, Surface Tech Sys Voorwaarde: Volledig …Jaar: 1987
Model: Branson/IPC 3000,2000,4000 series Categorie: Plasma Asher, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: Branson/IPC Staat: Volledig gerenoveerd en getest door verkoper Locatie: VERENIGDE STATEN Installatie en training: Beschikbaar tegen extra kosten.Jaar: 1995
Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: Gasonics Aura 2000LL Categorie: Plasma Asher, Halfgeleider Procesapparatuur Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: Gasonics Staat: Volledig gerenoveerd en getest door verkoper Geldige tijd: Dit …Jaar: 1995
Model: JETFIRST 100 -RTP Categorie: RTP - Snelle Thermische Verwerking Oorspronkelijke fabrikant: Jipelec Staat: Volledig gereviseerd en getest door verkoper Locatie: VERENIGDE STATEN Installatie en training: Beschikbaar tegen extra kosten.Jaar: 1994
Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: PlasmaTherm 790 Categorie: Plasma-etsther, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: PlasmaTherm Staat: Volledig gereviseerd en getest door verkoper Geldige tijd: Dit item …Jaar: 1995
Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: AST vat Asher Categorie: Plasma Asher, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: AST, Advanced Surface Technologies INC Staat: Volledig gerenoveerd en getest …Jaar: 2000
AnnealSys AS-One Snelle Thermische Processor. apparaat is gebruikt . weinig draaiuren , schoon super conditie. 4 inch. Ovens voor snelle thermische verwerking voor de ontwikkeling van snelle thermische gloei- en CVD-processen. Wafergrootte: Tot 4 inch. Model: AnnealSys AS-One Categorie: RTP - Snelle thermische verwerking Oorspronkelijke fabrikant: AnnealSys Staat: Volledig gereviseerd en getest door verkoper Locatie: VERENIGDE STATEN Installatie en training: …Jaar: 1995
Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: Heatpulse 4100 Categorie: RTP - Snelle thermische verwerking Oorspronkelijke fabrikant: AG Associates Staat: Volledig gereviseerd en getest door verkoper Geldige tijd: Dit …Jaar: 2004
Alle specificaties en informatie kunnen zonder voorafgaande kennisgeving worden gewijzigd en kunnen niet worden gebruikt voor aankoop en faciliteitsplan. Controleer de bijgewerkte informatie op onze website voordat u tot aankoop overgaat. Wij stellen uw tijd op prijs. Model: Oxford 100 RIE Categorie: Plasma-etser, Apparatuur voor halfgeleiderprocessen, RIE Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: Oxford,OXFORD Plasmalab Staat: Volledig gerenoveerd en getest door verkoper Geldige …Jaar: 1985
Model: Technics 2000, Technics PE-IIA Categorie: Plasma Asher, Halfgeleider Procesapparatuur Fabrikant oorspronkelijke apparatuur: Technics Staat: Volledig gerenoveerd en getest door verkoper Locatie: VERENIGDE STATEN Installatie en training: Beschikbaar tegen extra kosten.Jaar:
Model: 600 SemiAuto - Halfautomatisch RF-plasmasysteem - Kan tot 200 mm wafers verwerken - Gebruikt voor strippen van fotoresist en oppervlaktereiniging, en voor het etsen van silicium en siliciumverbindingen - Kamerafmetingen: 245 mm diameter, 380 mm diepte - Materiaal kamer: keramisch - ENI RF-generator: 0-600 Watt, 13,56 MHz - Gassen: 4 kanalen geregeld door 4 MFC's - Leybold D65B vacuümpomp …Jaar: 2016
R&D lasergraveerplatform Brand 4 Jet, jaar 2016 Perfecte staat. Machine uitgerust met xy-marmer en besturingscomputer. Let op: zonder laser (was uitgerust met laser ROFIN powerline L 100 SHG) Het setje is als volgt: Afmetingen industriële cleanroombehuizing 390x235x235 Numeriek besturingssysteem met knikker voor het verplaatsen van de x- en y-assen THORLABS broodplank voor optische padindeling Beckhoff PLC Max. substraatgrootte voor belasting …Jaar:
200mm LPCVD-oven buis 1: TEOS/gloeiend buis 2: Nitride/poly, gasaansluitingen: lucht laag N2, N2, FG1, Ar, O2, SiH2Cl2(DCS), SiH4, NH3 2 Kashiyama vacuümpompen met blowers Schumacher M-Dot doteringsbronregelaar Afmetingen oven 66x36x78 afm. gasmodule 18x36x78 benodigd vermogen: 480v, 250 ampère max.Jaar:
208v, 3 fase, 50/60hz, 20 ampère Uitzonderlijke staat: Kwartsvat vertoont geen sporen van etsing of gebruik Seren 600 watt Rf voeding 13.56mhz Externe wandgemonteerde stroomverdeler en contactdoos met EFOJaar:
Afmeting 3100 AFM X-Y beeldvormingsgebied ongeveer 90um vierkant Z-bereik ca. 6um tot 150 mm monstergrootte nanoscoop IIIa besturing Geïntegreerde akoestische trillingsisolatietafelJaar:
ENI ACG10B 1200W Rf 13,56mhz generator 2 elektrische schappen Porter Masss stroomregelaars: 1000 SCCM N2 500 SCCM N2